极紫外光刻技术_探析EUV极紫外光刻机光源的关键作用
2024-12-29EUV极紫外光刻技术是当今半导体制造业中最先进的技术之一。它能够将芯片上的线条宽度缩小到纳米级别,从而提高芯片的性能和可靠性。EUV极紫外光刻技术的成功离不开其关键组成部分——光源。 EUV极紫外光刻机的光源是一种名为“等离子体源”的设备。它使用高功率激光将锡(Sn)微粒加热到数万度,从而产生极紫外辐射。这种辐射具有非常短的波长(13.5纳米),可以穿透光刻模板并在光刻胶上形成图案。光源是EUV极紫外光刻技术中最关键的部分之一。 光源的稳定性和持续性对EUV极紫外光刻技术的成功至关重要。由于光